Máy quang phổ phát xạ nguyên tử ICP-OES Optima 8300

Máy quang phổ

• Máy đa sắc: Máy đa sắc Optima trên cơ sở echelle năng lượng cao sử dụng 2 detector SCD, phủ toàn dải phổ từ 163 ~ 782 nm. Độ phân giải của hệ thống là 0,006 nm ở 200 nm. Cách tử echelle có mật độ 79 vạch/mm với góc vát 63,4⁰. Bộ chia cho vùng UV là cách tử 374 vạch/mm, trong khi một lăng kính thạch anh 60⁰ được sử dụng như bộ chia cho vùng ánh sáng nhìn thấy.

• Hệ thống quang bền nhiệt: Toàn bộ hệ quang được bao bọc trong một vỏ quang bền nhiệt và được làm sạch

• Trường nhìn plasma: trường nhìn kép được điều khiển hoàn toàn bằng máy tính, có thể lựa chọn chế độ xuyên tâm, dọc trục hoặc hỗn hợp cho bất kỳ bước sóng nào trong cùng một phương pháp.

• Cửa chập và hệ thống tái hiệu chỉnh Hg: Cửa chập vận hành bằng khí nén và được điều khiển bằng máy tính tự động mở và đóng mỗi khi phân tích cho từng mẫu một, bảo vệ hệ gương khỏi sự chiếu dài của plasma, giúp tăng tuổi thọ của gương. Một đèn thủy ngân được gắn kèm với cơ cấu cửa chập và có thể được nhìn tại một tần số do người sử dụng lựa chọn để tự động cập nhật hiệu chỉnh bước sóng của hệ thống tại đường phát xạ 253 nm.

• Detector: Loại detector mảng SCD chứa 235 mảng bao phủ khoảng 6000 bước sóng trên một tấm nền silic có kích thước 13x19 nm.

Hệ thống ICP

• Máy phát cao tần: Optima 8300 được trang bị máy phát cao tần trạng thái rắn thế hệ thứ 4, với tần số 40MHz, có thể điều chỉnh công suất từ 750 – 1500 W, với bước tăng 1W. Hiệu suất năng lượng lên tới hơn 81%.

• Việc đánh lửa cho plasma được điều khiển hoàn toàn bằng phần mềm máy tính. Plasma có thể tự động đánh lửa vào một thời điểm mà người sử dụng đã định trước và tự động tắt sau khi phân tích xong.

• Để an toàn cho người sử dụng và bảo vệ hệ thống, hệ thống sẽ liên tục kiểm soát dòng nước, áp suất khí cắt, áp suất khí argon, cửa bảo vệ và hiển thị trạng thái khóa bằng biểu tượng trên màn hình máy tính. Nếu một trong các khóa này bị ngắt, plasma sẽ ngay lập tức tắt.

• Hệ thống làm mát tuần hoàn được yêu cầu, với tốc độ dòng chảy khoảng 4L/phút ở áp suất 310 ~ 550 kPa và nhiệt độ 15 ~ 25⁰C.

Điều khiển dòng khí

• Khí argon: các van solenoid điều khiển bằng máy tính được sử dụng để điều chỉnh tự động dòng khí sao cho nằm trong khoảng 0 ~ 20 L/phút với bước tăng 1 L/phút cho khí argon plasma, trong khoảng 0 ~ 2 L/phút với bước tăng 0,1 L/phút cho khí argon phụ trợ. Một bộ điều khiển dòng khối được cung cấp để điều chỉnh dòng khí argon nebulizer sao cho nằm trong khoảng 0 ~ 2 L/phút với bước tăng 0,01 L/phút

• Khí cắt: Khí cắt không khí nén (18 ~ 25 L/phút) được sử dụng để loại bỏ đuôi plasma, giúp giảm nhiễu và tăng dải động học. Cắt đuôi plasma bằng khí nên không cần bảo dưỡng và giúp giảm chi phí.

Hệ thống dẫn mẫu

• Tháp plasma: sử dụng một ống thạch anh, bên trong có một vòi phun (injector) nhôm, chống chịu được sự ăn mòn và axit, kể cả axit HF và nước cường toan. Ngoài ra còn một số loại injector khác để khách hàng có thể lựa chọn. Buồn phun sương được gắn tích hợp với tháp plasma. Hệ thống dẫn mẫu có thể điều chỉnh và tháo lắp dễ dàng mà không cần dụng cụ.

• Buồng phun sương: loại Scott bằng nhựa Ryton  chống HF hoặc loại xoáy dòng Cyclonic.

• Đầu phun sương: loại chéo dòng hoặc loại đồng tâm bằng thủy tinh. Loại chéo dòng với thiết kế GemTips có khả năng chịu ăn mòn. Ngoài ra, model Optima 8300 còn có một lựa chọn khác là hệ thống dẫn mẫu với đầu phun sương điện tử eNeb, giúp tăng giới hạn phát hiện gấp 2 ~ 4 lần.

• Bơm nhu động: 3 kênh, điều khiển bằng máy tính, có thể thay đổi tốc độ trong khoảng 0,2 ~ 5 mL/phút với bước tăng 0,1 mL/phút, sử dụng ống dẫn có đường kính 0,76 mm. Phần mềm trang bị tính năng FastPump và SmartRinse, giúp giảm thời gian phân tích. 

Thông số vật lý chung

• Nguồn điện:          Một pha, 200-254 VAC, dòng 20A, 50/60 Hz

• Kích thước:           Dài 150 cm, cao 76 cm, rộng 80 cm, nặng 181.5 kg

• Môi trường:           Thiết bị được vận hành trong phòng thí nghiệm có nhiệt độ trong khoảng 15 ~ 35⁰C. Để tối ưu hóa hiệu năng của thiết bị, nhiệt độ phòng nên được kiểm soát ở khoảng 20±2⁰C.