Thiết bị khối phổ nguyên tử plasma Agilent 7900 ICP-MS

☆☆☆☆☆ ( 0 đánh giá ) 334 lượt xem
Giá tham khảo : Liên hệ

Nhà cung ứng: Công ty TNHH Kỹ thuật Công nghệ DKSH

Thiết bị khối phổ nguyên tử plasma Agilent 7900 ICP-MS.

  • Hệ thống khối phổ nguyên tử plasma Agilent 7900 ICP-MS là thế hệ khối phổ nguyên tử plasma mới với kích thước nhỏ gọn. Với công nghệ đột phá, Hệ thống khối phổ nguyên tử plasma Agilent 7900 ICP-MS có các ưu điểm vượt trội cao hơn nhiều lần so với dòng ICP-MS 7700 đang rất được ưa chuộng tại thị trường hiện nay, cụ thể tăng 10 lần khả năng tín hiệu mẫu so với tín hiệu nền, tăng 10 lần tổng nồng độ chất rắn hoà tan (TDS) trong nền mẫu, tăng 10 lần khoảng động học tuyến tính. Phần mềm thông minh có thể tự lập trình phương pháp tối ưu cho các nhu cầu phân tích khác nhau. Hệ thống khối phổ nguyên tử plasma Agilent 7900 ICP-MS sử dụng công nghệ đột phá Helium collision để loại bỏ nhiễu triệt để, đảm bảo độ chọn lọc và độ tin cậy cao.
     
    Hệ thống khối phổ nguyên tử plasma Agilent 7900 ICP-MS cung cấp hiệu suất cao nhất cho các ứng dụng thương mại và công nghiệp đòi hỏi sự linh hoạt cần thiết trong nghiên cứu và phân tích nâng cao đòi hỏi thông số kỹ thuật tối ưu, tiên tiến. Độ nhạy cao và thu nhận nhanh các tín hiệu thoáng qua - cần thiết để phân tích các hạt nano đơn lẻ (spICP-MS), các tế bào đơn lẻ và để cắt đốt bằng laser - mang lại lợi thế so với các đối thủ cạnh tranh.
     
    Hệ thống Agilent 7900 ICP-MS ứng dụng vào phân tích mẫu trên một số lĩnh vực như sau:
    - Phân tích vết kim loại trong các nền mẫu khác nhau, có khả năng phân tích nhiều nguyên tố cùng lúc mà không mất nhiều thời gian để trích mẫu nhiều lần hoặc sử dụng nhiều thiết bị khác nhau
    - Ngoài ra nhờ kết nối với thiết bị LC, hệ thống Agilent 7900 ICP-MS còn phân tích được Cr(VI) và một số kim loại có gắn hợp chất hữu cơ trong thực phẩm và các nền mẫu khác
    - Phân tích nguyên dạng hợp chất kim loại gắn với gốc hữu cơ (hợp chất hữu cơ kim loại)
    - Phân tích vết đồng vị của kim loại để truy tìm nguồn gốc thực phẩm.
    Tính năng chính
    - Hoạt động với nền mẫu cao chưa từng có
    - Dải động học tuyến tính rộng
    - Phát hiện nguyên tố ở mức vết tốt hơn
    - Phân tích nhanh các tín hiệu ngắn
    - Dễ sử dụng
    - Cải thiện năng suất

  • THÔNG SỐ KỸ THUẬT
  • Cấu tạo thiết bị gồm 5 phần chính:
    1. Bộ phận ion hóa mẫu: gồm có bộ phun sương, torch plasma, nguồn cao tần tạo plasma
    Nhiệm vụ: tạo nguồn plasma cation (+)
    2. Bộ phận giao tiếp giữa luồn plasma ion và hệ thống chân không: gồm có sample cone, skimmer cone, hệ các thấu kính off-axis
    Nhiệm vụ: tập hợp các ion (+) và tăng tốc cho chúng, đồng thời loại bỏ các phần tử trung hòa và phần lớn các photon.
    3. Bộ phận loại nhiễu bằng cơ chế va đập suy giảm năng lượng ORS3 (3rd Octopole Reaction System) hoặc bằng phản ứng với ion
    Nhiệm vụ: loại hẩu hết các nhiễu bởi ion đa nguyên tư
    4. Hệ tách khối và đầu dò diod quang: gồm quardrupole
    Nhiệm vụ: tách khối của các ion và hướng cac ion này lần lượt đi vào đầu dò (từ khối nhỏ đến khối lớn) theo thứ tự thế quét
    5. Hệ thống LC
    Để phân tích nguyên dạng các nguyên tố trong mẫu, hệ ICP-MS kết nối thêm với hệ thống sắc ký lỏng LC.
    Nhiệm vụ của LC là tách các nguyên tố ở dạng nguyên thủy của nó rồi đưa vào hệ thống ICP-MS để đo. Ví dụ như tách Cr(III) và Cr(VI), tách Metyl Hg , các dạng Hg hữu cơ và Hg vô cơ, tách các dạng As hữu cơ và As vô cơ.

    Scroll