Thiết bị phủ mẫu MC1000

☆☆☆☆☆ ( 0 đánh giá ) 294 lượt xem
Giá tham khảo : Liên hệ

Nhà cung ứng: Công ty TNHH Hitachi Asia (Việt Nam)

Thiết bị giúp giảm thiểu hư hại mẫu nhờ sử dụng điện cực loại Magnetron.

  • ● Hiển thị qua màn hình cảm ứng LCD nên thuận tiện và dễ dàng cài đặt các điều kiện vận hành.
    ● Có thể lựa chọn buồng mẫu cho loại mẫu dầy hay lớn (chọn thêm.)
    ● Chức năng phương pháp để lưu trữ các điều kiện xử lý thường dùng.

  • THÔNG SỐ KỸ THUẬT
  • STT

    Mô tả

    Bộ phóng điện (Discharge)

    Loại

    Loại phóng điện diode magnetron (Trường điện vuông góc với trường từ)

    Loại điện cực

    Đĩa song song ngược (nam châm nhúng)

    Điện áp

    0.4kV DC tối đa (thay đổi thông qua điều khiển pha)

    Dòng

    Tối đa 40mA DC

    Tốc độ phủ (tối đa)*1*2

    [Điều kiện]

    Áp suất: 7Pa

    Dòng điện phóng: 40mA

    Khoảng cách giữa bia phủ và bền mặt mẫu: 20mm

    Loại bia Pt (chọn thêm)

    15nm/phút

    Loại bia Pt-Pd (chọn thêm)

    20nm/phút

    Loại bia Au (chọn thêm)

    35nm/phút

    Loại bia Au-Pd (chọn thêm)

    25nm/phút

    Mẫu phủ

    Đường kính tối đa

    60mm

    Chiều cao tối đa

    20mm

    Bơm sơ cấp

    135/162L/min (50/60Hz)

    Bia phủ*2

    Pt, Pt-Pd(8:2), Au, Au-Pd(6:4)

    Nguồn điện yêu cầu

    Một pha, 100V AC (±10%) 15A (50/60Hz), ổ cắm 3 cực (3mm)

    Kích thước

    Rộng

    450mm

    Sâu

    391mm

    Cao

    390mm

    Trọng lượng

    Máy chính: 25kg

    Bơm sơ cấp: 28kg

    Scroll