Hệ thống quang phổ phát xạ plasma ICP-OES - PRODIGY PLUS

☆☆☆☆☆ ( 0 đánh giá ) 394 lượt xem
Giá tham khảo : Liên hệ

Nhà cung ứng: CÔNG TY TNHH BETA TECHNOLOGY

Prodigy Plus là hệ thống quang phổ phát xạ plasma ghép nối cặp cảm ứng ICP-OES hoàn toàn tự động phân tích đồng thời các nguyên tố vi lượng trong nước hoặc vật liệu hữu cơ. Prodigy plus được trang bị đầu dò tiên tiến, hệ thống quang học thiết kế đặc biệt giúp thiết bị có độ phân giải tuyệt vời, độ ổn định và giới hạn phát hiện cho kết quả đáng tin cậy, có nhiều tính năng tùy chọn đảm bảo để nâng cao khả năng của phòng thí nghiệm phân tích hữu cơ.

  • HỆ THỐNG QUANG PHỔ PHÁT XẠ PLASMA ICP-OES GHÉP NỐI CẶP CẢM ỨNG

    MODEL: PRODIGY PLUS

    Prodigy Plus là hệ thống quang phổ phát xạ plasma ghép nối cặp cảm ứng ICP-OES hoàn toàn tự động phân tích đồng thời các nguyên tố vi lượng trong nước hoặc vật liệu hữu cơ. Prodigy plus được trang bị đầu dò tiên tiến, hệ thống quang học thiết kế đặc biệt giúp thiết bị có độ phân giải tuyệt vời, độ ổn định và giới hạn phát hiện cho kết quả đáng tin cậy, có nhiều tính năng tùy chọn đảm bảo để nâng cao khả năng của phòng thí nghiệm phân tích hữu cơ.

    TÍNH NĂNG NỔI BẬT

    Có các cấu hình: dọc trục Axial, xuyên tâm Radial, hoặc xem kép Dual-View kết hợp dọc trục/xuyên tâm

    Đầu dò CMOS định dạng lớn, độ phân giải cao, tốc độ đọc nhanh, dải tuyến tính rộng

    Chụp ảnh toàn khung hình, ghi lại toàn bộ phổ ICP trong một lần đọc

    Dải bước sóng rộng: 165 – 1.100 nm (có thể chọn dải 134 - 1100 nm cho phân tích Halogen)

    Hệ quang kiểu Echelle hiệu năng cao, tiêu cự: 800 mm, cho ánh sáng lạc thấp nhất

    Khóa Twist-n-Lock dễ dàng thao tác, chỉ cần vặn và khóa; tự động canh chỉnh bộ đưa mẫu

    Hệ thống giới thiệu mẫu dành riêng cho ứng dụng

    Màn hình lịch trìnhbảo trì được tích hợp


  • THÔNG SỐ KỸ THUẬT
  • HỆ THỐNG NẠP MẪU

    Bộ đưa mẫu dạng đuốc, lắp theo kiểu khóa Twist-n-Lock, dễ tháo lắp

    Bơm nhu động: điều khiển bằng máy tính với 4 kênh, 12 rollers, bơm mẫu đến máy phun sương

    Bộ phun sương: đồng tâm, chống HF, rãnh chữ V, lưu lượng thấp

    Buồng phun: buồng phun dạng xoắn ốc (cyclonic spray chamber), chống HF

    Các hệ thống giới thiệu mẫu có sẵn: mẫu sạch, mẫu lượng chất rắn hòa tan cao, mẫu hữu cơ và mẫu HF

    HỆ THỐNG KIỂM SOÁT KHÍ

    Khí plasma: điều khiển bằng MFC (mass flow control), 0 - 20 L/phút. Tiêu hao thông thường 20 L/phút

    Khí phụ trợ: điều khiển bằng MFC, 0 - 2 L/phút.

    Khí bộ phun sương: điều khiển áp suất, 0 - 60 psi, lựa chọn điều khiển lưu lượng

    Khí lọc: khí Ar hoặc N2, điều khiển ở 0 - 15 L/phút. Tốc độ bình thường 1 L/phút

    Ngắt khí cho chế độ xem hướng trục và xem kép: bơm khí được tích hợp, khóa liên động, điều khiển bằng máy tính

    NGUỒN ICP

    Bộ tạo tần số: thiết kế không cần nước làm nguội

    Tần số: 40.68 MHz (±0.03%)

    Bộ khuếch đại: trạng thái rắn

    Tiêu chuẩn đáp ứng: FCC và CE,

    Đầu ra tối đa của bộ phát: 4 kW

    Dải nguồn khả dụng: 600 - 2000 W, gia số 10 W

    Đánh lửa và ngưng: tự động, điều khiển bởi máy tính

    Khóa liên động an toàn: lưu lượng nước, áp suất khí Ar, áp suất ngắt khí, nắp thiết bị

    Nước làm mát: 30 psi (1.9 bar) ở 2 L/phút

    Thoát khí thải: 2.83 m3/min

    HỆ THỐNG QUANG PHỔ KẾ

    Thiết kế quang học: high energy Echelle Polychromator, Out-of-Plane Wadsworth Echelle

    Chiều dài tiêu cự: 800 mm

    Độ phân tán: 0.19 nm/mm @ 200 nm

    Độ phân giải quang học: 0.008 nm @ 200 nm

    Khe cổng vào (entrance slit): 40 x 100 µm

    Cách tử: 52.13 g/mm, 102 x 102 mm

    Góc phát sáng: 32o

    Lăng kính: 5o, bằng Silica nung chảy, 95x 80 mm

    Dải bước sóng: 165 - 1100 nm, tùy chọn dải 134 - 1100 nm cho phân tích Halogen

    HỆ THỐNG ĐẦU DÒ

    Công nghệ: CMOS Detector (detector được gắn trên camera, camera được gắn trên hệ thống quang học)

    Kích thước đầu dò: 28 mm x 28 mm (784 mm2)

    Số pixels: 3,38 triệu (1840 x 1840)

    Kích thước pixel: 15 µm

    Khu vực hoạt động: 100%

    Hệ thống làm mát: 3-Stage Peltier

    Nhiệt độ làm mát: -35oC – 40oC

    Chế độ đo: đồng thời

    TỐI ƯU HÓA PLASMA

    Tối ưu hóa dựa trên cường độ, giới hạn phát hiện hoặc tín hiệu trên nền

    Tối ưu hóa quan sát: các vị trí quan sát đồng trục, hướng tâm hoặc cả hai hướng được tối ưu dưới sự kiểm soát của máy tính.

    PHẦN MỀM

    Phần mềm Sala điều khiển, thu nhận và xử lý dữ liệu

    Phần mềm giao diện đồ họa, điều khiển mọi thông số của thiết bị, bao gồm các công cụ mạnh dùng cho phân tích mẫu và phát triển phương pháp, bảo trì thiết bị, ghi chép dữ liệu người vận hành, hoạt động của máy và các kết quả.

    Thiết kế giao diện: Phần mềm có bảng hướng dẫn (navigation panel) giúp điều khiển dễ dàng

    Dễ dàng thực hiện với các "nhiệm vụ phức tạp"

    Tạo một phương pháp duy nhất phù hợp với yêu cầu phân tích cụ thể

    Tinh chỉnh phương pháp hiện có để đạt được kết quả vượt trội

    Thực hiện đánh giá chi tiết các kết quả cho một mẫu hoặc loạt mẫu

    THÔNG SỐ KHÁC

    Nguồn điện: 1 pha, 195-245 V, 30 A, 50/60 Hz

    Nhiệt độ làm việc: 15 – 30oC

    Độ ẩm: 20 - 80 %, không ngưng tụ

    Kích thước máy chính (HxWxD) 71.1 x 132.1 x 55.9 cm

    Khối lượng máy chính: 132 kg

    Scroll