HỆ THỐNG NẠP MẪU
Bộ đưa mẫu dạng đuốc, lắp theo kiểu khóa Twist-n-Lock, dễ tháo lắp
Bơm nhu động: điều khiển bằng máy tính với 4 kênh, 12 rollers, bơm mẫu đến máy phun sương
Bộ phun sương: đồng tâm, chống HF, rãnh chữ V, lưu lượng thấp
Buồng phun: buồng phun dạng xoắn ốc (cyclonic spray chamber), chống HF
Các hệ thống giới thiệu mẫu có sẵn: mẫu sạch, mẫu lượng chất rắn hòa tan cao, mẫu hữu cơ và mẫu HF
HỆ THỐNG KIỂM SOÁT KHÍ
Khí plasma: điều khiển bằng MFC (mass flow control), 0 - 20 L/phút. Tiêu hao thông thường 20 L/phút
Khí phụ trợ: điều khiển bằng MFC, 0 - 2 L/phút.
Khí bộ phun sương: điều khiển áp suất, 0 - 60 psi, lựa chọn điều khiển lưu lượng
Khí lọc: khí Ar hoặc N2, điều khiển ở 0 - 15 L/phút. Tốc độ bình thường 1 L/phút
Ngắt khí cho chế độ xem hướng trục và xem kép: bơm khí được tích hợp, khóa liên động, điều khiển bằng máy tính
NGUỒN ICP
Bộ tạo tần số: thiết kế không cần nước làm nguội
Tần số: 40.68 MHz (±0.03%)
Bộ khuếch đại: trạng thái rắn
Tiêu chuẩn đáp ứng: FCC và CE,
Đầu ra tối đa của bộ phát: 4 kW
Dải nguồn khả dụng: 600 - 2000 W, gia số 10 W
Đánh lửa và ngưng: tự động, điều khiển bởi máy tính
Khóa liên động an toàn: lưu lượng nước, áp suất khí Ar, áp suất ngắt khí, nắp thiết bị
Nước làm mát: 30 psi (1.9 bar) ở 2 L/phút
Thoát khí thải: 2.83 m3/min
HỆ THỐNG QUANG PHỔ KẾ
Thiết kế quang học: high energy Echelle Polychromator, Out-of-Plane Wadsworth Echelle
Chiều dài tiêu cự: 800 mm
Độ phân tán: 0.19 nm/mm @ 200 nm
Độ phân giải quang học: 0.008 nm @ 200 nm
Khe cổng vào (entrance slit): 40 x 100 µm
Cách tử: 52.13 g/mm, 102 x 102 mm
Góc phát sáng: 32o
Lăng kính: 5o, bằng Silica nung chảy, 95x 80 mm
Dải bước sóng: 165 - 1100 nm, tùy chọn dải 134 - 1100 nm cho phân tích Halogen
HỆ THỐNG ĐẦU DÒ
Công nghệ: CMOS Detector (detector được gắn trên camera, camera được gắn trên hệ thống quang học)
Kích thước đầu dò: 28 mm x 28 mm (784 mm2)
Số pixels: 3,38 triệu (1840 x 1840)
Kích thước pixel: 15 µm
Khu vực hoạt động: 100%
Hệ thống làm mát: 3-Stage Peltier
Nhiệt độ làm mát: -35oC – 40oC
Chế độ đo: đồng thời
TỐI ƯU HÓA PLASMA
Tối ưu hóa dựa trên cường độ, giới hạn phát hiện hoặc tín hiệu trên nền
Tối ưu hóa quan sát: các vị trí quan sát đồng trục, hướng tâm hoặc cả hai hướng được tối ưu dưới sự kiểm soát của máy tính.
PHẦN MỀM
Phần mềm Sala điều khiển, thu nhận và xử lý dữ liệu
Phần mềm giao diện đồ họa, điều khiển mọi thông số của thiết bị, bao gồm các công cụ mạnh dùng cho phân tích mẫu và phát triển phương pháp, bảo trì thiết bị, ghi chép dữ liệu người vận hành, hoạt động của máy và các kết quả.
Thiết kế giao diện: Phần mềm có bảng hướng dẫn (navigation panel) giúp điều khiển dễ dàng
Dễ dàng thực hiện với các "nhiệm vụ phức tạp"
Tạo một phương pháp duy nhất phù hợp với yêu cầu phân tích cụ thể
Tinh chỉnh phương pháp hiện có để đạt được kết quả vượt trội
Thực hiện đánh giá chi tiết các kết quả cho một mẫu hoặc loạt mẫu
THÔNG SỐ KHÁC
Nguồn điện: 1 pha, 195-245 V, 30 A, 50/60 Hz
Nhiệt độ làm việc: 15 – 30oC
Độ ẩm: 20 - 80 %, không ngưng tụ
Kích thước máy chính (HxWxD) 71.1 x 132.1 x 55.9 cm
Khối lượng máy chính: 132 kg